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微纳-23-移动掩模曝光系统
2013-12-17| 编辑: | 【

移动掩模曝光系统(紫外光刻机)

仪器型号:中国光电URE-2000A/55

购置年月:20126

仪器简介:

URE-2000系列紫外深度光刻机采用积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应、真空曝光和气浮曝光等技术,实现了高均匀照明和亚微米高分辨力光刻;采用底面对准技术,单曝光头实现高准确度双面对准曝光;采用积木错位蝇眼透镜结合离轴非球面反射照明等技术,实现大面积、高能、均匀、冷光、平行曝光;采用双焦点对准技术,实现厚胶高准确度对准与套刻。

应用范围:

广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域,在LEDMEMSIC领域及大尺寸光栅、码盘等刻划中也具有突出的功能与用途。

技术参数:

1. 曝光面积:150mm×150mm

2. 分辨力:0.8-1μm(胶厚2μm的正胶)

3. 对准精度:0.6μm

4. 掩模样片整体运动范围:X6mm;Y:6mm

5. 掩模尺寸:3英寸、4英寸、5英寸、7英寸

6. 样片尺寸:直径15mm-- 150mm;厚度0.1mm--8mm

7. 照明均匀性: 3.5%100mm 范围); 5%150mm范围)

8. 掩模相对于样片运动行程:X: 5mm; Y: 5mm; : 6

9. 最大胶厚:500m(SU8胶,用户提供匀胶条件)

10. 光源平行性:3.5

11. 汞灯功率:1000W(直流)

12. 曝光设定方式:定时(倒计时方式0.1s-999.9s任意设定)

13. 外形尺寸:1400mm(长)1200mm() 2150mm(高)

 
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