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微纳-20-刻蚀机
2013-12-17| 编辑: | 【

磁增强反应离子刻蚀机

仪器型号:ME-3A

购置年月:20126

仪器简介:

ME3A型多功能机既可作反应离子刻蚀(RIE),又可作磁增强反应离子刻蚀(MERIE),且转换十分方便(只需拨一下开关),由于有磁场的作用,它在较高真空度(< 1Pa)下亦可起辉并稳定工作,因此,它不仅可用于常规的半导体干法刻蚀,还特别适用于亚微米和边沿陡直图形的刻蚀,使用不同的气体,它可刻蚀Si3N4SiO2、磷硅玻璃、SipolySiWWSiMo、石英、铌、正、负光刻胶、聚乙酰亚胺等材料。该机型具有六路进气入口(其中二路用于气路清洗),采用4个质量流量计控制气流流量,因此重复性好,可自动控时。另外,该机预抽真空的时间很短(3~5分钟),工作效率高,操作简单。

应用范围:

不仅可用于常规的半导体干法刻蚀,还特别适用于亚微米和边沿陡直图形的刻蚀。

技术参数:

1. 射频功率:10-500(可调)

2. 真空系统:110/秒分子泵机组

3. 均匀性:±5% (4英寸内)

4. 反应室尺寸:内径300 mm

5. 整机尺寸:1.06×0.7×1.32 m3

 
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